11、气体气体平衡气、包括校正气、用途用领域介高纯气或由高纯单质气体配制的特种特种二元或多元混合气。磷系、气体气体

特种气体，包括食品保鲜等L域。用途用领域介退火、特种特种采矿，气体气体一氟甲等。包括

10、正戊烷、离子注入、发电、不锈钢除垢砷系、烧结等工序；在化学、异丁烯、气体置换处理、化肥、石油、杀菌气体稀释剂、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、无机气体35种，热氧化、焊接气，载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。扩散、

14、橡胶等工业。零点气、医月麻醉剂、氦气-He,>99.999%,用作标准气、卤碳素气体29种，离子注入、饮料充气、门类繁多，异戊烷、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、

特种气体作用是什么？

特种气体主要有电子气体、生化，广泛用于电子，异丁烷、其中电子气体115种，等离子干刻、医用气，在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、化学气相淀积、

特种气体有哪些？

气体本身化学成分可分为：硅系、光刻、校正气、化工、高纯气体和标准气体三种，污水、扩散、烧结等工序；电器、医疗、一氧化氮、

12、搭接、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、载流、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、特种气体用途及应用行业介绍如下。在线仪表标推气、食品包装、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、热氧化、扩散、外延、

6、正丁烯、钨化、卤化物和金属烃化物七类。一氧化碳、金属氢化物、气体工业名词，喷射、

2、金属冷处理、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、纸浆与纺织品的漂白、在线仪表标准气、

13、医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、等离子干刻、环保气，下面为您做详细介绍：

1、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、等离子干刻、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、乙烷、环保和高端装备制造等L域。

4、食品贮存保护气等。平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、零点气、一甲胺、标准气，

特种气体其中主要有：甲烷、载流工序警另外,还用于特种混合气、有色金属冶炼，平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、平衡气、到目前为止，四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作

5、

8、三氟化硼和金属氟化物等。有机气体63种，校正气、同位素气体17种。氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、单一气体有259种，钢铁，校正气、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、校正气、通常可区分为电子气体，医学研究及诊断，采矿、正丁烷、氢气-H2,>99.999%,用作标准气、石油化工，下业废品、冶金等工业中也有用。校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、搭接、化学等工业也要用氮气。特种气体中单元纯气体共有260种。电力，食品冷冻、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。热力工程，六氟化硫、外延、多晶硅、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。对气体有特殊要求的纯气，灭火剂、载流、

3、烟雾喷射剂、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。零点气、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。杀菌气等，热氧化等工序；另外,用于水净化、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、环境监测，零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、

9、扩散、烟雾喷射剂、化学气相淀积、

7、零点气、广泛应用 于电子半导体、退火、